光刻 - 维基百科，自由的百科全书
网页光刻工艺（英语：photolithography 或 optical lithography，台湾称为微影製程）是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤，该步骤利用曝光和显影在光阻层上刻画几何图形结构，然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到所在衬底上。
Photolithography - Wikipedia
网页Photolithography is a subclass of microlithography, the general term for processes that generate patterned thin films. Other technologies in this broader class include the use of steerable electron beams, or more rarely, nanoimprinting, interference, magnetic fields, or scanning probes.
光刻技术 - 百度百科
网页光刻技术是指在光照作用下，借助光致抗蚀剂（又名光刻胶）将掩膜版上的图形转移到基片上的技术。
什么是光刻技术，为什么对芯片制造至关重要？ - 知乎
网页2019年6月3日 · 光刻是将掩模版上的图形转移到涂有光致抗蚀剂（或称光刻胶）的硅片上，通过一系列生产步骤将硅片表面薄膜的特定部分除去的一种图形转移技术。光刻技术是借用照相技术、平板印刷技术的基础上发展起来的半导体关键工艺技术。
光刻 - 维基百科，自由的百科全书
网页光刻工艺 （英语：photolithography 或 optical lithography，）是 半导体器件制造 工艺中的一个重要步骤，该步骤利用曝光和显影在光阻层上刻画几何图形结构，然后通过 刻蚀 工艺将光掩模上的图形转移到所在 衬底 上。. 这里所说的衬底不仅包含 矽 晶圆，还可以是 ...
半导体工艺 (三)在晶圆上绘制电路的光刻工艺 | 三星半导体官网
网页光刻工艺类似于洗印黑白照片. 人们经常将 Photo Lithography(光刻)缩写成 Photo。得此名称的原因是,这个工艺在晶 圆上利用光线来照射带有电路图形的光罩,从而绘制电路。形成图形的方法类似于在洗印黑 白照片时,将在胶片上形成的图像印在相纸上。
关于ASML | 光刻技术的领导者
网页asml是半导体行业的创新领导者。 我们提供涵盖硬件、软件和服务的全方位光刻解决方案，帮助芯片制造商在硅晶圆上批量“刻”制图形。
光刻 - Horiba
网页光刻，也被称为光学平版刻法或紫外光刻，是一种在薄膜或基板（也被称为“晶圆”）上对零件图形化的精密加工工艺。光刻技术利用光将几何图形从光掩模（也被称为“光罩”）转移到基板上的感光（即光敏）化学光刻胶上。
光刻（Photolithography）介绍 - 知乎 - 知乎专栏
网页光刻胶是聚合物和一些化合物的混合物，在化合物中最重要的是一种Photo Acid Generator(PAG)的物质。 当光子打到PAG上，就会产生一种酸（Acid)，然后这种酸和聚合物反应，把聚合物分解，这样聚合物就对显像剂(developer)可溶解了。
光刻工艺 - 百度百科
网页光刻（英语：photolithography）工艺是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤，该步骤利用曝光和显影在光刻胶层上刻画几何图形结构，然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到所在衬底上。
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