值得注意的是，半导体材料ETF（562590）连续5日获资金增仓，累计吸金2.14亿元，截至11月14日，半导体材料ETF（562590）规模站稳4亿关口，反映投资者对半导体上游板块信心。

IT之家 11 月 15 日消息，《日本经济新闻》当地时间今日凌晨报道称，日本先进半导体代工企业 Rapidus 购入的第一台 ASML EUV 光刻机 将于 2024 年 12 月中旬抵达北海道新千岁机场，这也将成为日本全国首台 EUV 光刻设备。

值得注意的是，半导体材料ETF（562590）连续5日获资金增仓，累计吸金2.14亿元，截至11月14日，半导体材料ETF（562590）规模站稳4亿关口，反映投资者对半导体上游板块信心。

【ITBEAR】据《日本经济新闻》报道，日本半导体制造企业Rapidus将迎来重要时刻，其购入的首台ASML EUV光刻机预计于2024年底抵达北海道新千岁机场。此举标志着日本将首次拥有EUV光刻设备，对日本半导体产业发展具有里程碑意义。

据SIA数据，24年9月全球半导体行业销售额达到553亿美元，同比增长23.2%，环比增长4.1%。全球半导体市场在24年三季度继续增长，季度销售额增长速度为2016年以来的最大增速，9月份的销售额达到了市场有史以来最高的月度总销售额。

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01摘要光刻机作为半导体制造的关键设备，其作用在于将设计好的电路图案精确转移到硅片表面。这一过程不仅耗时较长，还占据了芯片生产成本的三分之一。报告显示，光刻工艺在整个晶圆制造过程中耗时可达40%至50%，而先进芯片可能需要进行20至30次光刻操作。光 ...

A股唯一具备7nm工艺的光刻机，手握36亿订单，受到了八大投资机构的巨额投资，总计13.8亿； 国内唯一拥有荷兰ASML曝光机的光刻胶公司，也是国内唯一一家拥有高档光刻胶自主研发及生产实力的国家级高新技术企业； ...