溅射产率（Sputter Yield, Y）是衡量溅射过程效率的一个核心参数，它定义为每单位入射离子导致从靶材表面溅射出的原子数量。溅射产率的表达式通常表示为： Y=Nsputtered atomsNincident ionsY = \frac{N_{\text{sputtered atoms>}{N_{\text{incident ions>}Y=Nincident ionsNsputtered ...

在本文中，我们将重点介绍半导体封装的另一种主要方法——晶圆级封装（WLP）。本文将探讨晶圆级封装的五项基本工艺，包括：光刻（Photolithography）工艺、溅射（Sputtering）工艺、电镀（Electroplating）工艺、光刻胶去胶（PR Stripping）工艺和金属刻蚀（Metal Etching ...

溅射技术的核心原理是利用高能粒子（通常为离子）轰击靶材表面，使靶材原子获得足够的能量脱离原子位置并向基底表面移动，最终沉积形成薄膜。具体来说，溅射是一种基于动量传递的过程。 离子轰击与动量传递： 在溅射过程中，气体（如氩气）在真空腔 ...

镀膜机SC-450报价含票含运吗？ SC-450有现货吗？ 磁控溅射镀膜机(Sputter)信息由载德半导体技术有限公司为您提供，如您想了解更多关于磁控溅射镀膜机(Sputter)报价、型号、参数等信息，载德半导体客服电话：400-860-5168转3241，欢迎来电或留言咨询。

本装置是一款在真空环境中对PET Film进行ITO（氧化铟锡）或Metal Coating（金属涂层）的专业设备。它集成了加热、Plasma Etching（等离子蚀刻）和Sputter（溅射）等多道工序 设备在高度真空的状态下运行，确保涂层和蚀刻过程不受外界气体和杂质的干扰，保证涂层的 ...

欧莱新材主营业务为高性能溅射靶材的研发、生产和销售，主要产品包括多种尺寸和各类形态的铜靶、铝靶、钼及钼合金靶、ITO靶和TCOM靶等 ...

2024年9月5日，合肥欧莱高新材料有限公司（简称“合肥欧莱”）举行正式投产仪式，这标志着欧莱新材首次公开发行股票并在上海证券交易所科创板上市的募集资金投资项目“高端溅射靶材生产基地项目（一期）”（简称“募投项目”）已完成主体建设及设备 ...

的冷态溅射镀膜技术不但可以获得高质量膜层，也解决了长久以来困扰用户的热损伤和热变形问题，而其另一 溅射电流回路设计也保证了真正均匀*的镀膜。 Cressington 108+108C 全自动镀金镀碳联用仪是 高质量的镀膜仪系统 ，在保证高性能镀膜同时，不会引起镀金 ...

PELCO® Tripod PolisherTM 590由IBM East Fishkill实验室的研究人员设计，以准确地制备预先指定的微米尺度区域的透射电镜和扫描电镜样品。对于TEM样品，该技术已成功地用于将离子研磨时间限制在15分钟以内，并且在某些情况下，消除了离子研磨的需要。 尽管这项技术是 ...

臻锂新材是一家技术创新型新能源新材料科技企业，聚焦高性能低成本涂层制备技术。公司采用差异化的磁控溅射一步法技术路线研发生产超薄复合集流体，致力于提高复合集流体产品性能，降低生产成本。 集流体是锂离子电池中不可或缺的重要组成部件 ...