IT之家 11 月 15 日消息，《日本经济新闻》当地时间今日凌晨报道称，日本先进半导体代工企业 Rapidus 购入的第一台 ASML EUV 光刻机将于 2024 年 12 月中旬抵达北海道新千岁机场，这也将成为日本全国首台 EUV 光刻设备。

【ITBEAR】据《日本经济新闻》报道，日本半导体制造企业Rapidus将迎来重要时刻，其购入的首台ASML EUV光刻机预计于2024年底抵达北海道新千岁机场。此举标志着日本将首次拥有EUV光刻设备，对日本半导体产业发展具有里程碑意义。

11月15日，半导体再迎调整，截至10:00，半导体材料ETF（562590）跌超2%，盘中持续溢价交易，买盘资金活跃，持仓股涨跌不一，有研新材再度涨停，天岳先进、TCL科技跟涨，拓荆科技、中微公司领跌。值得注意的是，半导体材料ETF（562590） ...

A股唯一具备7nm工艺的光刻机，手握36亿订单，受到了八大投资机构的巨额投资，总计13.8亿； 国内唯一拥有荷兰ASML曝光机的光刻胶公司，也是国内唯一一家拥有高档光刻胶自主研发及生产实力的国家级高新技术企业； ...

11月14日，光刻机巨头阿斯麦（ASML）的股价在欧洲市场大幅拉升，截至发稿，该公司涨超5.3%，报661.5欧元/股。另外，美股盘前，阿斯麦股价涨幅超过3%。

当地时间11月14日，荷兰光刻机巨头ASML举办2024 年投资者日会议，该公司表示将更新其长期战略以及全球市场和技术趋势分析，确认其到2030年的年收入将达到约440亿至600亿欧元，毛利率约为56%至 ...

据韩媒报道，三星电子将从 ASML 引进首台 High-NA EUV 光刻机 EXE:5000，预计 2025 年初到货。 由于该光刻机的安装和调试需要较长时间，预计最快 2025 年中旬才能投入研发使用，韩国业界预期三星也将正式启动 1 ...

01摘要光刻机作为半导体制造的关键设备，其作用在于将设计好的电路图案精确转移到硅片表面。这一过程不仅耗时较长，还占据了芯片生产成本的三分之一。报告显示，光刻工艺在整个晶圆制造过程中耗时可达40%至50%，而先进芯片可能需要进行20至30次光刻操作。光 ...

最近热议的一个焦点是high-NA EUV光刻机又贵，生产效率也不怎么样。但又听说有一种DSA技术，能够缓解成本问题，这究竟是个什么技术？ ASML最新一季财报引发了挺多争议，焦点的一部分在high-NA高数值孔径光刻机上，尤其是其高成本问题。业内人士最近普遍也 ...

太紫微公司自主设计的T150 A光刻胶产品，经过严格的量产验证，成功通过了量产验证测试（MVT）。T150 A光刻胶产品对标国际头部企业主流KrF光刻胶系列。相较于被业内称之为“妖胶”的国外同系列产品UV1610..... 电子工程专辑讯 近日，武汉太紫微光电科技有限 ...